本篇文章377字,读完约1分钟

据台湾媒体报道,7月23日,台湾向明半导体设备厂进入TSMC euv(极紫外光刻)供应链。

TSMC

据台湾媒体报道,向明切入TSMC 5纳米极紫外(euv)面膜盒表面处理业务,与euv面膜盒制造商接洽合作机会,并利用独家专利化学镀镍(enp)表面处理技术提高产品良率。目前,面罩盒工厂正在进行评估和测试,TSMC euv工艺指定产品的入场券机会将在未来大幅增加。

为了进入5纳米极紫外荫罩盒业务,向明积极联系荫罩盒制造商寻求合作机会,并提供了化学镀镍(enp)表面处理专利技术,可在金属或塑料等固体基材表面沉积一层均匀的镍磷合金,使其极紫外荫罩盒不受污染,减少颗粒过程,延长产品寿命周期。

据分析,一旦获得euv面膜盒表面处理业务,用TSMC面膜盒替代的需求将达到近10000套,随着后续4纳米和3纳米的量产需求,向明2021年的经营业绩值得期待。

来源:搜狐微门户

标题:台媒:半导体设备厂翔名打入台积电EUV供应链

地址:http://www.shwmhw.com/shxw/12413.html