外媒：三星3nm工艺2021年量产已不太现实 2022年更为可行

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[TechWeb]4月7日消息，据国外媒体报道，在5纳米工艺即将量产的情况下，3纳米工艺已经成为TSMC和三星关注的焦点，三星电子的子公司三星晶圆代工(Samsung wafer foundry)此前设定了2021年量产3纳米工艺的目标。

然而，来自外国媒体的最新报道显示，三星的3纳米工艺不太可能在2021年大规模生产，现在2022年将是一个更现实的时间点。

外国媒体援引行业新闻报道称，三星的3纳米工艺可能会推迟到2022年大规模生产，而推迟到2021年主要是受当前疫情的影响。当前的疫情影响了物流和运输服务，导致EUV光刻机和3纳米工艺所需的其他关键生产设备的交付延迟，从而导致大规模生产的延迟。

目前还不清楚三星竞争对手的3纳米工艺是否会受到影响。如果竞争对手进展正常，可能对三星非常不利。

值得注意的是，作为世界上唯一一家能够生产极紫外光刻机的制造商，Asme此前已将今年第一季度的业绩预测从第四季度的31亿欧元下调至2019年全年的33亿欧元，从23亿欧元下调至24亿欧元。

Asme对第一季度业绩预测的调整主要受疫情影响，但他们也给出了三个具体原因，包括光刻机交货延迟，一些制造商担心他们的交货能力。为了加快交货进度，一些制造商甚至要求他们在完成正常的工厂验收前交货。

据国外媒体此前报道，三星的3纳米工艺将采用围栅晶体管(gaafet)技术，这与7纳米和5纳米工艺中使用的finfet技术完全不同，其面积可减少35%。此前的报告显示，三星3纳米芯片的性能比5纳米芯片高出33%。三星基于gaafet技术的3纳米原型工艺已经投入生产。

来源：搜狐微门户